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博碩士論文 etd-0714106-172404 詳細資訊
Title page for etd-0714106-172404
論文名稱
Title
BGA(Sn-Ag-Cu)無鉛錫球於175℃時效處理之介面反應研究
Interfacial Reactions of Sn-Ag-Cu Solder Ballin BGA Package at 175℃ aging
系所名稱
Department
畢業學年期
Year, semester
語文別
Language
學位類別
Degree
頁數
Number of pages
111
研究生
Author
指導教授
Advisor
召集委員
Convenor
口試委員
Advisory Committee
口試日期
Date of Exam
2006-06-16
繳交日期
Date of Submission
2006-07-14
關鍵字
Keywords
無鉛錫球
Sn-Ag-Cu, BGA
統計
Statistics
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中文摘要
在構裝的技術中,BGA鍚球的封裝方式是目前產業界所喜愛的封裝方式之一,且無鉛焊料是目前電子業之發展趨勢,所以本實驗為研究Sn-Ag-Cu系列之錫球銲料,在鍍有Cu、Ni/Cu、Au/Ni/Cu之BGA基板上迴焊、時效後之介金屬成長行為及界面反應,瞭解不同金屬鍍層之BGA基版,對Sn-Ag-Cu銲錫之接點所造成的影響。
本研究選擇含磷SAC405錫球銲料,分別與Cu、Ni/Cu、Au/Ni/Cu基版,於1次、2次迴銲(reflow)、175℃時效反應,實驗結果顯示,含磷SAC405與Cu基版在界面反應生成Cu6Sn5、Cu3Sn 介金屬;含磷SAC405與Ni/Cu基版在界面反應生成(Cu,Ni)6Sn5 介金屬,而在靠近Ni層有(Ni,P) 介金屬生成;含磷SAC405與Au/Ni/Cu基版在界面反應生成(Cu,Ni,Au)6Sn5 介金屬,而在靠近Ni層有(Ni,P) 介金屬生成。
研究結果顯示,錫球銲料與不同基版反應,就會影響界面之介金屬的型態和種類,且對銲錫接點有著不同的影響,三種基版中以Au/Ni/Cu基版之介金屬生長較為緩慢。
Abstract
None.
目次 Table of Contents
目 錄

壹、前言 1
1-1、研究背景 1
1-2、研究動機 2

貳、理論與文獻回顧 3
2-1、金屬間之界面反應 3
2-1-1、Sn/Cu之界面反應 4
2-1-2、Sn-Ag-Cu/Cu之界面反應 7
2-1-3、Sn/Ni之界面反應 8
2-1-4、Sn-Ag-Cu/Ni之界面反應 9
2-1-5、Sn-Ag-Cu/Au/Ni/Cu之界面反應 9
2-2、介金屬成長動力學 11

參、實驗方法 15
3-1、實驗目的 15
3-2、試片準備 15
3-2-1、BGA(Ball-Grid Array)試片製作與分類 15
3-2-2、錫球與Pad之接合部位 16
3-2-3、錫球與Pad之接合條件 16
3-3、實驗步驟 17
3-3-1、試片處理流程 17
3-3-2、試片Cross Section 部位之金相處理 18
3-4、試片分析 19

肆、實驗結果 20
4-1、175°C/Sn-4Ag-0.5Cu-P錫球接點與Cu基版之界面反應 20
4-1-1、錫球接合部位之IMC成長行為 20
4-1-2、錫球內析出之IMC 21
4-1-3、各成分之擴散行為 22
4-2、175°C/Sn-4Ag-0.5Cu-P錫球接點與Ni/Cu基版之界面反應 23
4-2-1、錫球接合部位之IMC成長行為 23
4-2-2、錫球內析出之IMC 24
4-2-3、各成分之擴散行為 25
4-3、175°C/Sn-4Ag-0.5Cu-P錫球接點與Au/Ni/Cu基版之界面反應 26
4-3-1、錫球接合部位之IMC成長行為 26
4-3-2、錫球內析出之IMC 27
4-3-3、各成分之擴散行為 27

伍、討論 29
5-1、175°C/Sn-4Ag-0.5Cu-P錫球接點與Cu基版之界面反應 29
5-1-1、接合部位之IMC成長行為 29
5-2、175°C/Sn-4Ag-0.5Cu-P錫球接點與Ni/Cu基版之界面反應 31
5-2-1、錫球接合部位之IMC成長行為 31
5-2-2、錫球內P的擴散行為 33
5-3、175°C/Sn-4Ag-0.5Cu-P錫球接點與Au/Ni/Cu基版之界面反應 34
5-3-1、接合部位之IMC成長行為 34
5-3-2、錫球內P的擴散行為 35
5-3-3、錫球內AuSn4的擴散行為 35
5-4、175°C/Sn-4Ag-0.5Cu-P錫球與各基板之比較 36

陸、結論 38

柒、參考文獻 40

















圖 目 錄

圖2-1、Sn-Cu二元相圖 44
圖3-2、實驗計畫流程圖 45

圖4-1.1、The cross-section view for the SAC405(P)/Cu 46
interfaces that had aged at 175°C、1st re-
flow. (a)1 day.(b)5 days.(c)10 days.(d)20 days.
(e)30 days.(f)50 days.
圖4-1.2、The cross-section view for the SAC405(P)/Cu 47
interfaces that had aged at 175°C、2nd re-
flow. (a)1 day.(b)5 days.(c)10 days.(d)20 days.
(e)30 days.(f)50 days.
圖4-2.1、SAC405(P)/Cu 在175°C下1st reflow、IMC 之成分分析 48
圖4-2.2、SAC405(P)/Cu 在175°C下2nd reflow、IMC 之成分分析 49
圖4-3.1、SAC405(P)/Cu 在175°C下,1st reflow1至10天 50
Ag(上)、P(中)分佈情形。
圖4-3.2、SAC405(P)/Cu 在175°C下,1st reflow20天至50天 51
Ag(上)、P(中)分佈情形。
圖4-3.3、SAC405(P)/Cu 在175°C下,2nd reflow1天至10天 52
Ag(上)、P(中)分佈情形。
圖4-3.4、SAC405(P)/Cu 在175°C下,2nd reflow20天至50天 53
Ag(上)、P(中)分佈情形。
圖4-4.1、SAC405(P)/Cu 在175°C下,1st reflow元素分佈圖. 54
(a)1 day.(b)5 days
圖4-4.2、SAC405(P)/Cu 在175°C下,1st reflow元素分佈圖. 55
(c)10 days.(d)20 days
圖4-4.3、SAC405(P)/Cu 在175°C下,1st reflow元素分佈圖. 56
(e)30 days.(f)50 days
圖4-4.4、SAC405(P)/Cu 在175°C下,2nd reflow元素分佈圖. 57
(a)1 day.(b)5 days
圖4-4.5、SAC405(P)/Cu 在175°C下,2nd reflow元素分佈圖. 58
(c)10 day.(d)20 days
圖4-4.6、SAC405(P)/Cu 在175°C下,2nd reflow元素分佈圖. 59
(e)30 day.(f)50 days
圖4-5.1、The cross-section view for the SAC405(P)/Ni/Cu 60
interfaces that had aged at 175°C、1st reflow.
(a)1 day.(b)5 days.(c)10 days.(d)20 days.
(e)30 days.(f)50 days.
圖4-5.2、The cross-section view for the SAC405(P)/Ni/Cu 61
interfaces that had aged at 175°C、2nd reflow.
(a)1 day.(b)5 days.(c)10 days.(d)20 days.
(e)30 days.(f)50 days.
圖4-6.1、SAC405(P)/Ni/Cu 在175°C下1st reflow、IMC 之成分分析 62
圖4-6.1、SAC405(P)/Ni/Cu 在175°C下2nd reflow、IMC 之成分分析 63
圖4-7.1、SAC405(P)/Ni/Cu 在175°C下,1st reflow1至10天 64
Ag(上)、P(中)分佈情形。
圖4-7.2、SAC405(P)/Ni/Cu 在175°C下,1st reflow20至50天 65
Ag(上)、P(中)分佈情形。
圖4-7.3、SAC405(P)/Ni/Cu 在175°C下,2nd reflow1天至10天 66
Ag(上)、P(中)分佈情形。
圖4-7.4、SAC405(P)/Ni/Cu 在175°C下,2nd reflow20天至50天 67
Ag(上)、P(中)分佈情形。
圖4-8.1、SAC405(P)/Ni/Cu 在175°C下,1st reflow元素分佈圖. 68
(a)1 day.(b)5 days
圖4-8.2、SAC405(P)/Ni/Cu 在175°C下,1st reflow元素分佈圖. 69
(c)10 days.(d)20 days
圖4-8.3、SAC405(P)/Ni/Cu 在175°C下,1st reflow元素分佈圖. 70
(e)30 days.(f)50 days
圖4-8.4、SAC405(P)/Ni/Cu 在175°C下,2nd reflow元素分佈圖. 71
(a)1 day.(b)5 days
圖4-8.5、SAC405(P)/Ni/Cu 在175°C下,2nd reflow元素分佈圖. 72
(c)10 day.(d)20 days
圖4-8.6、SAC405(P)/Ni/Cu 在175°C下,2nd reflow元素分佈圖. 73
(e)30 day.(f)50 days
圖4-9.1、The cross-section view for the SAC405(P)/Au/Ni/Cu 74
interfaces that had aged at 175°C、1st reflow.
(a)1 day.(b)5 days.(c)10 days.(d)20 days.
(e)30 days.(f)50 days.
圖4-9.2、The cross-section view for the SAC405(P)/Au/Ni/Cu 75
interfaces that had aged at 175°C、2nd reflow.
(a)1 day.(b)5 days.(c)10 days.(d)20 days.
(e)30 days.(f)50 days.
圖4-10.1、SAC405(P)/Au/Ni/Cu 在175°C下1st reflow、IMC 之成分分析 76
圖4-10.2、SAC405(P)/Au/Ni/Cu 在175°C下2nd reflow、IMC 之成分分析 77
圖4-11.1、SAC405(P)/Au/Ni/Cu 在175°C下,1st reflow1至10天 78
Ag(上)、P(中)分佈情形。
圖4-11.2、SAC405(P)/Au/Ni/Cu 在175°C下,1st reflow20至50天 79
Ag(上)、P(中)分佈情形。
圖4-11.3、SAC405(P)/Au/Ni/Cu 在175°C下,2nd reflow1天至10天 80
Ag(上)、P(中)分佈情形。
圖4-11.4、SAC405(P)/Au/Ni/Cu 在175°C下,2nd reflow20天至50天 81
Ag(上)、P(中)分佈情形。
圖4-12.1、SAC405(P)/Au/Ni/Cu 在175°C下,1st reflow元素分佈圖. 82
(a)1 day.(b)5 days
圖4-12.2、SAC405(P)/Au/Ni/Cu 在175°C下,1st reflow元素分佈圖. 83
(c)10 days.(d)20 days
圖4-12.3、SAC405(P)/Au/Ni/Cu 在175°C下,1st reflow元素分佈圖. 84
(e)30 days.(f)50 days
圖4-12.4、SAC405(P)/Au/Ni/Cu 在175°C下,2nd reflow元素分佈圖. 85
(a)1 day.(b)5 days
圖4-12.5、SAC405(P)/Au/Ni/Cu 在175°C下,2nd reflow元素分佈圖. 86
(c)10 day.(d)20 days
圖4-12.6、SAC405(P)/Au/Ni/Cu 在175°C下,2nd reflow元素分佈圖. 87
(e)30 day.(f)50 days
圖5-1、Sn-4Ag-0.5Cu-P錫球/Cu在175°C,IMC成長示意圖 88
圖5-2.1、SAC405(P)/Cu IMC 厚度與時間之關係圖 89
圖5-2.2、含磷SAC405/Cu、在175°C下,IMC Cu3Sn厚度與時間對數之關係圖 90
圖5-2.3、含磷SAC405/Cu、在175°C下,IMC Cu6Sn5厚度與時間對數之關係圖 91
圖5-3、Sn-4Ag-0.5Cu-P錫球/Ni/Cu在175°C,IMC成長示意圖 92
圖5-4.1、SAC405(P)/Ni/Cu IMC 厚度與時間之關係圖 93
圖5-4.2、含磷SAC405/Ni/Cu在175°C下,IMC 厚度與時間平方根之關係圖- 94
圖5-5、Sn-4Ag-0.5Cu-P錫球/Au/Ni/Cu在175°C,IMC成長示意圖 95
圖5-6.1、SAC405(P)/Au/Ni/Cu IMC 厚度與時間之關係圖 96
圖5-6.2、含磷SAC405/Au/Ni/Cu在175°C下,IMC 厚度與時間平方根之關係圖- 97
圖5-7.1、SAC405(P)-Au/Ni/Cu 在175°C下,1st reflow Au分佈情形 98
圖5-7.2、SAC405(P)-Au/Ni/Cu 在175°C下,2nd reflow Au分佈情形 99
圖5-8.1、SAC405(P) 1st reflow of IMC 厚度與時間之關係圖---------100
圖5-8.2、SAC405(P) 2nd reflow of IMC 厚度與時間之關係圖---------101
參考文獻 References
柒、參考文獻
[1] 趙建基,姜信騰,李青峰,周意工,陳豫台,陳榮泰譯,J.H. Lau原著,“球腳格狀陣列封裝技術”,鴻海精密工業,pp.16-20,1997.
[2] 陳志銘,陳信文,”焊料與介面反應”,高立,pp.74-80,1999.
[3] N. Saunders and A.P. Miodownik,” Bulletin of alloy phase diagrams”, Metals Park American Society for Metals , Vol.11(3), pp.278-287, 1990.
[4] K.N. Tu,” Interdiffusion and reaction in bimetallic Cu-Sn thin films ”, Acta Metallurgica,Vol.21, pp.347-354,1973.
[5] H.K. Kim, H.K. Liou,and K.N. Tu,”Three-dimensional morphology of a very rough interface formed in the soldering reaction between eutectic SnPb and Cu”, Applied Physic. Lett.66(18),pp.2337-2339, 1995.
[6] D.A. Porter and K.E. Easterling,” Phase transformations in metals and alloys”, C.R.C, Second Edition, pp.46.
[7] H.K. Kim and K.N. Tu, “Kinetic analysis of the soldering reaction between eutectic SnPb alloy and Cu accompanied by ripening”, Physical Review B, Vol.53(23), pp.16027-16034,1996-I .
[8] A. Zribi, A. Clark, L. Zavalij, P. Borgensen, and E.J. Cotts ,”The growth of intermetallic compounds at Sn-Ag-Cu solder/Cu and Sn-Ag-Cu solder/Ni interfaces and the associated evolution of the Solder microstructure“, Journal of Electronic Materials,Vol.30(9),pp.1157-1164,
2001.
[9] S.W. Laub, R.A Fournelle, J. Liang,” Design and reliability of solders and solder interconnections”, The Minerals, Metals and Materials Society, Florida,pp.247,1997.
[10] A. Hirose, H. Yanagawa, E. Ide, K. F. kobayashi,” Joint strength and interfacial microstructure between Sn-Ag-Cu and Sn-Zn-Bi solders and Cu substrate”, Science and Technology of Advanced Materials,pp.267-
276,2004.
[11] S.K. Kang , V. Ramachandran,” Growth kinetics of intermetetallic
phases at the liquid Sn and soloid Ni interface”, Scripta Metallurgica, Vol.14(4),pp.421-424,1980.
[12] J.W. Jang, D.R.F. Rear, T.Y. Lee, K.N. Tu, ” Morphology of interfacial reaction between lead-free solders and electroless Ni-P under bump metallization”, Journal of Applied Physics,Vol.88(11),pp.6359-
6363,2000.
[13] C.E. Ho.Y.L. Lin and C.R. Kao,” Strong Effect of Cu Concentration on the Reaction between Lead-Free Microelectronic Solders and Ni” ,
Chemistry of Materials, Vol.14(3),pp.949-951,2002.
[14] 羅偉誠,高振宏,“先進電子封裝中錫銀銅無鉛銲料與鎳銲墊反應之研究”,中國材料學會2002年會論文集,2002.
[15] C.E. Ho.,Y.L. Lin and C.R. Kao, ” Effect of Cu Concentration on the Reactions between Sn-Ag-Cu Solders and Ni”, Journal of Electronic Materials, Vol.31(6),pp.584-590,2002.
[16] S.K. Kang, R.S. Rai and S.Purushothaman,”Interfacial reactions
during soldering with lead-tin eutectic and lead (Pb)-free, tin-rich solders
”,Journal of Electronic Materials, Vol.25(7),pp.1113-1120, 1996.
[17] Z. Mei, M. Kaufmann, A. Eslambolchi and P. Johnson,” Brittle
interfacial fracture of PBGA packages on electron less Ni/immersion Au”, Proc. 48th Electronic Component and Technology Conference, pp.952
-961, 1998.
[18] A. Syed, “Reliability and Au embrittlement of lead free solders for BGA applications”, Advanced Packaging Materials, Processes, Properties and Interfaces. Proceedings. International Symposium on, pp 143-147, 2001.
[19] M.D. Cheng, S.F. Yen, T.H. Chuang, “Intermetallic compounds formed during the reflow and aging of Sn-3.8Ag-0.7Cu and Sn-20In-2Ag
-0.5Cu solder ball grid array packages”, Journal of Electronic Materials, Vol.33,pp.171-180, 2004.
[20] C.B. Lee, S.B. Jung, Y.E. Shin and C.C. Shur, ”Effect of isothermal aging ball shear strength in BGA joints with Sn-3.5Ag-0.75Cu solder”, Materials Transactions, Vol.43(8), pp.1858-1863,2002.
[21]鄭明達, “Sn-Ag-Cu 銲鍚球格陣列構裝界面反應研究”,國立台灣大學材料科學與工程學研究所博士論文,pp.26-28, 2003.
[22] T.K. Lee, S. Zang, C.C. Wang, A.C. Tang, D. Hadikusuma,
”Interfacial microstructures and kinetics of Au/SnAgCu”, Thin Solid Films,Vol.489(1-2),pp.1-5,2005.
[23] K.H. Prakash, T. Sritharan, “Interface reaction between copper and molten tin-lead solders”, Acta Materialia, Vol.49, pp.2481-2489,2001.
[24] Z. CHEN, M. HE and G. Qi,” Morphology and Kinetic Study of the Interfacial Reaction between the Sn-3.5Ag Solder and Electroless Ni-P Metallization” Journal of Electronics Materials, Vol.33(12), pp.1465
-1472, 2004.
[25] G.Y. Jang, C.S. Huang and J.G. Duh,” Mechanism of interfacial
reaction for the Sn-Pb solder bump with Ni/Cu Under-Bump Metallication in Flip-Chip technology”, Journal of Electronic Materials, Vol. 33(10), pp. 1118-1129, 2004.
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