摘 要
本研究是以濕式氧化法（Wet Air Oxidation,WAO）配合添加觸媒探討水中氨氮（NH3-N：400 mg/L至1000 mg/L）的去除效能及反應動力。一系列實驗於半批次與連續式操作系統下進行氨氮去除，實驗條件包括溫度、壓力、濃度及pH值。

在半批次式系統之WAO實驗中，操作條件為：NH3-N初始濃度400mg/L，溫度（423至503 K），總壓力（4.0 MPa）及pH（12.0）。結果顯示在503K，反應時間180分鐘之NH3總去除率僅達32.7 %，但添加莫耳比7：2：1的觸媒後，NH3總去除率可提昇至95.1%以上。在半批次實驗中並將以此基本數據進一步探討去除動力學的基本特徵。

在連續式WAO實驗中，處理條件為NH3-N入流濃度為400mg/L，pH=12.0，溫度503 K、總壓力2.0 MPa及空間流速4.5 hr-1(平均停留時間大約為14 min)，NH3總去除率僅達6.5%，但添加Cu/La/Ce = 7：2：1觸媒的濕式氧化反應（Catalytic Wet Air Oxidation，CWAO）其NH3去除率可達72.3%以上，當空間流速降低至1.5 hr-1（平均停留時間大約為40min），CWAO之NH3去除率更可達91%。在相同的處理條件下（pH=12.0，溫度503 K、總壓力2.0 MPa及空間流速1.5 hr-1）提高NH3-N入流濃度至600、800、1000 mg/L時，NH3總去除率分別為85、75、69％。由此結果可以知道反應物入流濃度亦為影響反應總去除效率之因子，反應入流濃度越高，則反應去除效率越低。

利用半衰期t1/2做本實驗半批次系統反應動力之確認，結果近似零階反應，其k值在反應溫度為503K、473K及423K時分別為10.121、9.124及6.570；以NH3去除率估算活化能值為9.747 kJ mol－1。由實驗數據可知反應中加入Cu/La/Ce=7：2：1觸媒，明顯地能使反應更易進行。

ABSRACT
This study was to investigate the removal efficiency and kinetics in oxidation of ammonia solutions (NH3-N) in ranging from 400 mg/L to 1000 mg/L by adding Cu/La/Ce catalyst in process of Wet Air Oxidation (denoted by WAO). All experiments were conducted in semi-batch and continuous reactors in series. The major parameters included temperature, pressure, concentration and pH.

In the semi-batch type of WAO experiments, the major parameters were performed at the following conditions: an initial concentration NH3-N of 400 mg/L, temperatures ranging from 423 K to 503 K, a total pressure of 4.0 Mpa, and a pH of 12.0. A removal efficiency of 32.7%was obtained in WAO process at 503 K for180 min, but it could be significantly promote to 95.1% after adding a catalyst of molar ratio 7:2:1.The kinetics of WAO with this catalyst in oxidation of NH3-N solutions, using a test of half-life, was developed nearly to a zero order. The reaction constants were 10.12 KJ/mol, 9.12 KJ/mol, and 6.57 KJ/mol at 503 K, 473 K and 423 K.

In the continuous type of WAO experiments, the major parameters were performed at the following conditions: an initial concentration NH3-N of 400 mg/L, a temperature of 503 K, a total pressure of 2.0 Mpa, a pH of 12.0 and a liquid space velocity of 4.5 hr-1 (averagelyresidence time 14 min) . A removal efficiency of NH3-N of 6.5 % only was achieved in WAO process for a space velocity of 4.5 hr-1 (averagely residence time 14 min) , but after adding a catalyst of molar ratio 7:2:1 it increased to 72.3 % for a same residence time and a better efficiency of above 91 % was found for 1.5 hr-1 (averagely residence time 40 min) . For increasing the initial concentration of NH3-N into 600 mg/L, 800 mg/L, and 1000 mg/L the removal efficiency of NH3-N decreased with 85 %,75 % and 69 % for 1.5 hr-1 . Thus, the initial concentration of NH3-N in influent inhibits the removal efficiency in the oxidation process. The higher initial concentration the lower removal efficiency.

目 錄
頁數
謝誌 I
中文摘要 II
英文摘要 IV
目錄 VI
表目錄 XI
圖目錄 XII
符號說明 XVI
委託分析項目 .XVIII

第一章 前言 1-1
1-1研究緣起 1-1
1-2研究目的 1-2
1-3研究內容 1-2

第二章 文獻回顧 2-1
2-1氨 2-1
2-1-1氨的簡介 2-1
2-1-2氨的來源 2-3
2-1-3氨的毒性 2-4
2-1-4氨的去除 2-6
2-2觸媒濕式氧化法 2-8
2-2-1濕式氧化原理 2-8
2-2-2濕式氧化法的發展及應用 2-8
2-2-3濕式氧化法特性 2-12
2-2-4濕式氧化法之動力模式 2-14
2-2-5濕式氧化法之反應步驟 2-15

頁數
2-2-6濕式氧化法的產物 2-17
2-2-7濕式氧化法的操作因子 2-19
2-3觸媒 2-23
2-3-1活性金屬 2-23
2-3-2觸媒製備方法概述 2-24

第三章實驗設備與研究方法 3-1
3-1觸媒製備及物性分析 3-1
3-1-1觸媒製備裝置 3-1
3-1-2觸媒製備程序 3-1
3-1-3觸媒物性鑑定 3-6
3-2實驗設備 3-10
3-2-1半批次設備及功能說明 3-10
3-2-2連續式設備及功能說明 3-13
3-3實驗操作步驟 3-15
3-3-1半批次式反應操作程序 3-15
3-3-2連續式反應操作程序 3-16
3-4實驗藥品與儀器 3-17
3-4-1實驗水樣 3-17
3-4-2實驗氣體及藥品 3-17
3-4-3實驗儀器 3-18
3-5實驗方法 3-20
3-5-1實驗設計 3-20
3-4-2實驗分析 3-20
3-4-3實驗分析項目及方法 3-26

第四章 結果與討論 4-1
4-1前導實驗 4-1
頁數
4-1-1氧分壓對WAO處理NH3去除率之影響 4-1
4-1-2觸媒篩選 4-3
4-2半批次式觸媒濕式氧化處理程序 4-5
4-2-1添加觸媒對去除率之影響 4-5
4-2-2初始pH值對去除率之影響 4-7
4-2-3 pH值之變化 4-9
4-2-4反應溫度對去除率之影響 4-10
4-2-5反應起始濃度對去除效率之影響 4-11
4-2-6氨之濕式氧化反應動力式推導 4-12
4-3連續式觸媒濕式氧化程序 4-20
4-3-1不同氧分壓下NH3去除率 4-20
4-3-2不同氧分壓下NO3-、NO2-選擇率 4-21
4-3-3不同溫度下NH3去除率 4-22
4-3-4不同溫度下NO3-、NO2-選擇率 4-22
4-3-5不同起始濃度 4-25
4-3-6不同起始pH值 4-26
4-4觸媒活性衰退試驗 4-27
4-5觸媒性質之探討 4-28
4-5-1元素分析（EA） 4-28
4-5-2感應耦合電漿質譜分析儀（ICP-MS） 4-29
4-5-3比表面積和平均孔徑（BET） 4-30
4-5-4掃描式電子顯微鏡分析（SEM） 4-31
4-5-5表面元素分析（EDS） 4-33
4-5-6 X射線繞設分析（XRD） 4-35

第五章 結論與建議 5-1
5-1結論 5-1

頁數
5-2建議 5-1

第六章 參考文獻 6-1

附錄A 儀器原理 A-1
A-1 BET比表面積分析儀 A-1
A-2 XRD(X-ray射線繞射分析儀) A-4
A-3 掃描式電子顯微鏡分析 A-7
A-4 元素分析儀 A-9

附錄B 校正曲線(Calibration curve) B-1
B-1 N2O （GC） B-1
B-2 NH4+（MERCK VEGA 400） B-2
B-3 NO3-（MERCK VEGA 400） B-3
B-4 NO2-（MERCK VEGA 400） B-4

附錄C 水蒸氣壓表 C-1

附錄D 觸媒元素分析數據 D-1

附錄E 觸媒金屬溶出數據 E-1

附錄F X-ray繞射數據及圖譜 F-1
F-1 Cu/La/Ce（un-used）圖譜 F-1
F-2 Cu/La/Ce（used）圖譜 F-2

附錄G MERCK VEGA 400 藥品說明 G-1
G-1 Merck Kit 1.14752 G-1
頁數
G-2 Merck Kit 1.14776 G-5
G-3 Merck Kit 1.14773 G-9

附錄H 熱電偶特性與使用環境的適應性 H-1

附錄I 個人簡歷 I-1

表目錄
頁數
表2-1 氨之物理及化學特性 2-2
表2-2 氨的合成方法 2-2
表2-3 燃燒來源氨的釋放量 2-3
表2-4 家庭熱源氨的產生量 2-4
表2-5 氨之生物毒性 2-6
表2-6 反應條件下水蒸氣壓計算表 2-19
表2-7 常見存在於Perovskite型氧化物中之陽離子 2-28
表3-1 濕式氧化處理程序操作條件直交表 3-24
表4-1 Cu/La/Ce各種比例觸媒篩選 4-3
表4-2 Cu/La/Ce觸媒鍛燒溫度篩選 4-4
表4-3 不同溫度下之反應階數（n） 4-17
表4-4 不同溫度下之反應速率常數（k） 4-17
表4-5 處理氨水溶液濕式氧化程序之活化能及Arrhenius Frequency (Temp. =423~503 K，Pt=4.0 MPa、pH0=12.0) 4-19
表4-6 觸媒表面之元素分析結果 4-28
表4-7 連續性測試金屬溶出結果 4-29
表4-8 觸媒之表面性質 4-30

圖目錄
頁數
圖1-1 研究流程圖 1-4
圖2-1 氨之分子構造式 2-3
圖2-2 美國Zimpro公司濕式氧化流程圖 2-11
圖2-3 APO反應器操作過程典型的溫度/壓力變化圖濕式氧化
路徑流程圖 2-12
圖2-4 濕式氧化法路徑流程圖 2-14
圖2-5 波洛斯凱特型金屬氧化物結構 2-27
圖3-1 觸媒製備之沉澱裝置 3-3
圖3-2 製備觸媒燒結裝置示意圖 3-4
圖3-3 觸媒製備流程圖 3-5
圖3-4 半批次反應器設備圖 3-12
圖3-4 連續式反應器設備圖 3-14
圖4-1 氧分壓對NH3去除率之影響(Initial Conc. of NH3=400
mg/L，Temp. =503K，pH0=12.0，PO2=1 ~ 5 MPa) 4-2
圖4-2 添加觸媒對NH3去除率之影響(Initial Conc. of NH3=400
mg/L, Pt=4.0 MPa，pH0=12.0，Temp. =503~423 K) 4-6
圖4-3 初始pH值對NH3去除率之影響(Initial Conc. of NH3=400 mg/L, Pt=4.0 MPa，Temp. =503 K) 4-8
圖4-4 反應過程中pH值之變化(Initial Conc. Of NH3=400 mg/L，Pt=4.0 MPa，Temp. =503 K) 4-9

頁數
圖4-5 溫度對NH3去除率之影響(Conc. =400 mg/L， Pt=4.0
MPa，pH0=12.0，Temp.=423 ~503K) 4-10
圖4-6 反應起始濃度對NH3去除率之影響(Conc. =400 ~ 1000
mg/L， Pt=4.0 MPa，pH0=12.0，Temp.=503K) 4-11
圖4-7 零階反應之測試-log CAo對log t1/2(Conc. =400 ~ 1000 mg/L， Pt=4.0 MPa，pH0=12.0，Temp.=503K) 4-14
圖4-8 零階反應之測試-log CAo對log t1/2(Conc. =400 ~ 1000 mg/L， Pt=4.0 MPa，pH0=12.0，Temp.=473K) 4-15
圖4-9 零階反應之測試-log CAo對log t1/2(Conc. =400 ~ 1000 mg/L， Pt=4.0 MPa，pH0=12.0，Temp.=423K) 4-15
圖4-10 反應起始濃度與半衰期之關係(Conc. =400 ~ 1000 mg/L， Pt=4.0 MPa，pH0=12.0，Temp.=503K) 4-16
圖4-11 反應起始濃度與半衰期之關係(Conc. =400 ~ 1000 mg/L， Pt=4.0 MPa，pH0=12.0，Temp.=473K) 4-16
圖4-12 反應起始濃度與半衰期之關係(Conc. =400 ~ 1000 mg/L， Pt=4.0 MPa，pH0=12.0，Temp.=423K) 4-17
圖4-13 反應速率常數(k)與反應溫度倒數(1000/T)之關係(添加觸媒；CWAO，半批次式) 4-19
圖4-14 氧分壓對NH3去除率及NO3-、NO2-選擇率之影響(Initial
Conc. of NH3=1000 mg/L，Temp. =503K，pH0=12.0，LHSV=6hr-1) 4-21


頁數
圖4-15 添加Cu/La/Ce觸媒對NH3去除率及NO3-、NO2-選擇率
隨空間流速之影響(連續式)(Initial Conc. of NH3=400
mg/L, Pt=2.0 MPa，pH0=12.0，Temp. =503 K) 4-23

圖4-16 添加Cu/La/Ce觸媒對NH3去除率及NO3-、NO2-選擇率
隨空間流速之影響(連續式)(Initial Conc. of NH3=400 mg/L, Pt=2.0 MPa，pH0=12.0，Temp. =473 K) 4-23
圖4-17 添加Cu/La/Ce觸媒對NH3去除率及NO3-、NO2-選擇率
隨空間流速之影響(連續式)(Initial Conc. of NH3=400 mg/L, Pt=2.0 MPa，pH0=12.0，Temp. =423K) 4-24
圖4-18 不同起始濃度對NH3去除率之影響(Initial Conc. of NH3=1000~400 mg/L，Temp. =503K，pH0=12.0) 4-25
圖4-19 不同起始pH值對NH3去除率之影響(Initial Conc. of NH3=400 mg/L，Temp. =503K，pH0=12.0~2.0) 4-26
圖4-20 Cu/La/Ce觸媒觸媒活性衰退試驗(連續式)(Initial
Conc. of NH3=1000 mg/L, Pt=2.0 MPa，pH0=12.0
，LHSV=6hr-1，Temp. =503K) 4-27
圖4-21 以掃描式電子顯微鏡( SEM )拍攝之Cu/La/Ce觸媒表面
結構 (Un-used Catalyst；放大倍率：2000 X) 4-32
圖4-22 以掃描式電子顯微鏡( SEM )拍攝之Cu/La/Ce觸媒表
面結構 (Used Catalyst；放大倍率：2000 X) 4-32
頁數
圖4-23 Cu/La/Ce觸媒之EDS圖(Un-used Catalyst) 4-34
圖4-24 Cu/La/Ce觸媒之EDS圖(Used Catalyst) 4-34
圖4-25 Cu/La/Ce觸媒之XRD圖(Un-used Catalyst) 4-36
圖4-26 Cu/La/Ce觸媒之XRD圖(Used Catalyst) 4-36

第六章 參考文獻
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