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博碩士論文 etd-0724102-181409 詳細資訊
Title page for etd-0724102-181409
論文名稱
Title
三氟甲基碘在Cu(111)上的表面化學研究: 碳-氟鍵活化、次甲基插入、β-消去 及銅蝕刻反應
Surface Chemistry of CF3I on Cu(111): C-F Activation, Carbene Insertion, β-Elimination, and Copper Etching Reactions
系所名稱
Department
畢業學年期
Year, semester
語文別
Language
學位類別
Degree
頁數
Number of pages
72
研究生
Author
指導教授
Advisor
召集委員
Convenor
口試委員
Advisory Committee
口試日期
Date of Exam
2002-07-23
繳交日期
Date of Submission
2002-07-24
關鍵字
Keywords
超高真空、反射式吸收紅外光譜、三氟甲基碘
RAIRS, TPD, UHV, trifluoromethyl iodide
統計
Statistics
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中文摘要
中文摘要
碳氟化合物(fluorocarbons) 由於碳氟之間強烈的鍵結作用因此具有特殊的熱穩定性,使其不論在工業上、農業化學甚至醫學工程上都有很廣泛的應用。本研究在超高真空條件下以trifluoromethyl iodide (CF3I, 三氟甲基碘)為前驅物,利用程溫反應/脫附(TPR/D)實驗觀察發現其熱脫附產物為200~260K 會產生四氟乙烯(tetrafluoroethane, F2C=CF2)及部分的CF2 自由基,並高溫有碘原子(900K)和CuF(890K)的脫附。進㆒步利用反
射式吸收紅外光譜(RAIRS)來研究表面上反應過程中所產生的中間體,發現低覆蓋量及高覆蓋量時於150K 左右有二氟次甲基的信號,顯示有碳-氟鍵活化反應,於高覆蓋量時則於250~310K 上觀察到五氟乙烷基的中間體,暗示260K 之四氟乙烯應來自於二氟次甲基插入銅與三氟甲基鍵中再脫去β-氟所生成。然而殘留在表面上的氟原子則是以CuF 的形式脫附,因此造成表面蝕刻反應。並以甲基碘為對照實驗比較二者反應路徑的差。

Abstract
none

目次 Table of Contents
目錄
中文摘要i
目錄ii
圖目iv
表目vi
第壹章、緒論1
第貳章、實驗部分4
2.1 程序控溫反應/脫附系統4
2.2 反射式吸收紅外光光譜儀系統6
第參章、結果9
3.1 CF3I 在Cu(111)上的表面化學-程序控溫反應/脫附實驗9
3.2 反射式吸收紅外光光譜實驗21
第肆章、討論34
4.1 三氟甲基碘覆蓋率與產物的關係34
4.2 四氟乙烯的生成:α 和β 碳上氟的脫去39
4.3 CF3I 與CH3I 在Cu(111)上反應性的比較42
4.3.1 CH3I 在Cu(111)的表面化學42
4.3.2 甲基碘與三氟甲基碘反應之異同50

4.4 表面蝕刻現象:CuF 的產生52
4.5 三氟甲基碘在Cu(111)及不同金屬表面之研究54
第伍章、結論58
第陸章、參考資料59
參考文獻 References
59
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