論文使用權限 Thesis access permission:校內校外完全公開 unrestricted
開放時間 Available:
校內 Campus: 已公開 available
校外 Off-campus: 已公開 available
論文名稱 Title |
三氟甲基碘在Cu(111)上的表面化學研究:
碳-氟鍵活化、次甲基插入、β-消去
及銅蝕刻反應
Surface Chemistry of CF3I on Cu(111): C-F Activation, Carbene Insertion, β-Elimination, and Copper Etching Reactions |
||
系所名稱 Department |
|||
畢業學年期 Year, semester |
語文別 Language |
||
學位類別 Degree |
頁數 Number of pages |
72 |
|
研究生 Author |
|||
指導教授 Advisor |
|||
召集委員 Convenor |
|||
口試委員 Advisory Committee |
|||
口試日期 Date of Exam |
2002-07-23 |
繳交日期 Date of Submission |
2002-07-24 |
關鍵字 Keywords |
超高真空、反射式吸收紅外光譜、三氟甲基碘 RAIRS, TPD, UHV, trifluoromethyl iodide |
||
統計 Statistics |
本論文已被瀏覽 5698 次,被下載 2880 次 The thesis/dissertation has been browsed 5698 times, has been downloaded 2880 times. |
中文摘要 |
中文摘要 碳氟化合物(fluorocarbons) 由於碳氟之間強烈的鍵結作用因此具有特殊的熱穩定性,使其不論在工業上、農業化學甚至醫學工程上都有很廣泛的應用。本研究在超高真空條件下以trifluoromethyl iodide (CF3I, 三氟甲基碘)為前驅物,利用程溫反應/脫附(TPR/D)實驗觀察發現其熱脫附產物為200~260K 會產生四氟乙烯(tetrafluoroethane, F2C=CF2)及部分的CF2 自由基,並高溫有碘原子(900K)和CuF(890K)的脫附。進㆒步利用反 射式吸收紅外光譜(RAIRS)來研究表面上反應過程中所產生的中間體,發現低覆蓋量及高覆蓋量時於150K 左右有二氟次甲基的信號,顯示有碳-氟鍵活化反應,於高覆蓋量時則於250~310K 上觀察到五氟乙烷基的中間體,暗示260K 之四氟乙烯應來自於二氟次甲基插入銅與三氟甲基鍵中再脫去β-氟所生成。然而殘留在表面上的氟原子則是以CuF 的形式脫附,因此造成表面蝕刻反應。並以甲基碘為對照實驗比較二者反應路徑的差。 |
Abstract |
none |
目次 Table of Contents |
目錄 中文摘要i 目錄ii 圖目iv 表目vi 第壹章、緒論1 第貳章、實驗部分4 2.1 程序控溫反應/脫附系統4 2.2 反射式吸收紅外光光譜儀系統6 第參章、結果9 3.1 CF3I 在Cu(111)上的表面化學-程序控溫反應/脫附實驗9 3.2 反射式吸收紅外光光譜實驗21 第肆章、討論34 4.1 三氟甲基碘覆蓋率與產物的關係34 4.2 四氟乙烯的生成:α 和β 碳上氟的脫去39 4.3 CF3I 與CH3I 在Cu(111)上反應性的比較42 4.3.1 CH3I 在Cu(111)的表面化學42 4.3.2 甲基碘與三氟甲基碘反應之異同50 4.4 表面蝕刻現象:CuF 的產生52 4.5 三氟甲基碘在Cu(111)及不同金屬表面之研究54 第伍章、結論58 第陸章、參考資料59 |
參考文獻 References |
59 1. Levy, R. A.; Zaitsev, V. B.; Aryusook, K.; Ravindranath, C.; Sigal, V. J. Mater. Res. 1998, 13, 2643. 2. Fracassi, F.; d’Agostino, R. J.Vac. Sci. Technol. B 1998, 16, 1867. 3. Girolami, G. S.; Jeffries, P. M.; Dubois, L. H. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 1015. 4. Parmeter, J. E. J. Phys. Chem. 1993, 97, 11530. 5. King, R. B.; Stafford, S. L.; Treichel, P. M.; Stone, F. G. A. J. Am. Chem. Soc. 1961, 83, 3604. 6. Liu, Z.-M.; Zhou, X.-L.; Kiss, J.; White, J. M. Surf. Sci. 1993, 286, 233. 7. Myli, K. B.; Grassian, V. H. J. Phys. Chem. 1995, 99, 1498. 8. Myli, K. B.; Grassian, V. H. J. Phys. Chem. 1995, 99, 5581. 9. Jensen, M. B.; Thiel, P. A. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 438. 10. Castro, M. E.; Pressley, L. A.; Kiss, J.; Pylant, E. D.; Jo, S. K.; Zhou, X.-L.; White, J. M. J. Phys. Chem. 1993, 97, 8476. 11. Sun, Z.-J.; Schwaner, A. L.; White, J. M. Chem. Phys. Lett. 1994, 219, 118. 12. Sun, Z.-J.; Schwaner, A. L.; White, J. M. J. Chem. Phys. 1994, 219, 118. 13. Fieberg, J. E.; Szabó, A.; White, J. M. J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1996, 92. 14. Szabó, A.; Converse, S. E.; Whaley, s. R.; White, J. M. Surf. Sci. 1996, 364, 345. 15. Dyer, J. S.; Thiel, P. A. Surf. Sci. 1990, 238, 169. 16. Jensen, M. B.; Myler, U.; Jenks, C. J.; Thiel, P. A.; Pylant, E. D.; White, J. M. J. Phys, Chem. 1995, 99, 8736. 17. Wu, H.-J.; Hsu, H.-K.; Chiang, C.-M. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 4434. 18. Junker, k. H.; Sun, Z.-J.; Scoggins, T. B.; White, J. M. J. Chem. Phys. 1996, 104, 3788. 19. Hou, Y.-C.; Chiang, C.-M. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 8116. 20. Nist Mass Spectrometry Data Center, http://webbook.nist.gov/chemistry 21. Chan, A. S. Y.; Skegg, M. P.; Jones, R. G. J. Vac. Sci. Technol. A 2001, 19, 2007. 22. McGee, P. R.; Cleveland, F. F.; Meister, A. G.; Decker, C. E.; Miller, S. I. J. Chem. Phys. 1953, 21, 242. 23. Cotton, F. A.; Wing, R. M. J. Organomet. Chem. 1967, 9, 511. 24. Milligan, D. E.; Jacox, M. E. J. Chem. Phys. 1968, 48, 2704. 25. Seel, F.; Flaccus, R.-D. J. Fluorine Chem. 1978, 12, 81. 26. Clark, G. R.; Hoskin, S. V.; Jones, T. C.; Roper, W. R. J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1983, 719. 27. Yang, Z.-Y.; Burton, D. J. J. Fluorine Chem. 2000, 102, 89. 28. Naumann, D.; Roy, T.; Caeners, B.; Hütten, D.; Tebbe, K. F.; Gilles, T. Z. Anorg. Allg. Chem. 2000, 626, 999. 29. Butler, R.; Snelson, A. J. Fluorine Chem. 1980, 15, 89. 30. Compton, D. A. C.; Rayner, D. M. J. Phys. Chem. 1982, 86, 1628. 31. Jacox, M. E . J. Phys. Chem. 1984, 88, 445. 32. Zaera, F. Applied Catalysis A : general 2002, 229, 75. 33. Zaera, F.; Hoffmann, H. J. Phys. Chem. 1991, 95, 6297. 34. Lin, J.-L.; Bent, B.E. J. Phys. Chem. 1993, 97, 9713. 35. Lin, J.-L.; Bent, B.E. J. Phys. Chem. 1993, 115, 2849. 36. Clark, H. C.; Tsai, J. H. J. Organomet. Chem. 1967, 7, 515. 37. Johnson, M. P. Inorg. Chem. 1968, 7, 315. 38. Appleton, T. G.; Chisholm, M. H.; Clark, H. C.; Manzer, L. E. Inorg. Chem. 1972, 11, 1786. 39. Wu, H.-J.; Chiang, C.-M. J. Phys. Chem. 1998, 102, 7075. 40. Chiang, C.-M.; Wentzlaff, T. H.; Bent, B. E. J. Phys. Chem. 1992, 96, 1836. 41. Lin, J.-L.; Chiang, C.-M.; Jenks, C. J.; Yang, M. X.; Wentzlaff, T. H.; Bent, B. E. J. Catal. 1994, 147, 250. 42. Lin, J.-L.; Bent, B.E. Chem. Phys. Lett. 1992, 194, 208. 43. CRC Handbook of Chemistry and Physics, 71st ed.; CRC Press : Boca Raton, FL, 1990-1991. 44. Goddard, P. J.; Lambert, R. M. Surf. Sci. 1977, 67, 180. 45. Winters, H. F. J. Vac. Sci. Technol. A 1985, 3, 786. 46. Bracker, A.; Jakob, P.; Naher, U.; Rudiger, M.; Sugawara, K.; Wanner, J. Can. J. Chem. 1994, 72, 643. 47. Sugawara, K.; Sun, W.; Wanner, J. Ber. Bunsenges. Phys. Chem. 1995, 99, 1357. |
電子全文 Fulltext |
本電子全文僅授權使用者為學術研究之目的,進行個人非營利性質之檢索、閱讀、列印。請遵守中華民國著作權法之相關規定,切勿任意重製、散佈、改作、轉貼、播送,以免觸法。 論文使用權限 Thesis access permission:校內校外完全公開 unrestricted 開放時間 Available: 校內 Campus: 已公開 available 校外 Off-campus: 已公開 available |
紙本論文 Printed copies |
紙本論文的公開資訊在102學年度以後相對較為完整。如果需要查詢101學年度以前的紙本論文公開資訊,請聯繫圖資處紙本論文服務櫃台。如有不便之處敬請見諒。 開放時間 available 已公開 available |
QR Code |