本論文分為兩部分，第一部分為O/NiAl(100)系統，第二部分為Co/Al2O3/NiAl(100)系統。第一部分前半部主要利用TPD所得資訊，以了解氧化物成長的機制，後半部利用對O/NiAl(100)系統加熱後所取得的AES，然後推論氧化物於加熱過程中表面形貌的改變。第二部分主要探討對Co/Al2O3/NiAl(100)系統曝氧會促使Co奈米粒子熱穩定性增加，並利用AES和TPA的資訊設法了解此穩定性增加的機制，同時也利用TPD的資訊以了解Co奈米粒子成長的因素與被氧化的難易，最後利用TPD資訊觀察Co氧化物對Ni和Al脫附的影響。

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1 簡介………………………………………………………1
2 基礎概念…………………………………………………3
2.1 薄膜的成長…………………………………………3
3 實驗儀器…………………………………………………8
3.1 多功能超高真空腔…………………………………8
4 電子有效衰減距離(EAL)與薄膜厚度…………………11
5 實驗結果與討論………………………………………16
5.1 樣品的準備與溫度量測…………………………16
5.2 O/NiAl(100)系統…………………………………18
5.2.1 NiAl(100)表面氧化物的成長………………18
5.2.2 NiAl(100)表面氧化物對Ni和Al脫附的影響24
5.2.3 加熱誘發Auger電子能量的偏移…………27
5.3 Co/Al2O3/NiAl(100)系統………………………36
5.3.1 Co奈米粒子熱穩定性的提升………………36
5.3.2 Co誘發Auger電子能量的偏移……………40
5.3.3 CoxOy的氧化還原過程……………………48
5.3.4 Co奈米粒子氧化的程度……………………59
5.3.5 CoxOy對Ni和Al脫附的影響…………………62
6 結論……………………………………………………64
參考文獻…………………………………………………66

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