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論文名稱 Title |
參雜矽氮化銦薄膜之螢光超快時間解析研究 The Ultrafast Time-resolved Photoluminescence Study of Si doped InN thin films |
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系所名稱 Department |
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畢業學年期 Year, semester |
語文別 Language |
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學位類別 Degree |
頁數 Number of pages |
69 |
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研究生 Author |
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指導教授 Advisor |
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召集委員 Convenor |
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口試委員 Advisory Committee |
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口試日期 Date of Exam |
2013-09-05 |
繳交日期 Date of Submission |
2013-09-12 |
關鍵字 Keywords |
氮化銦、歐傑結合率、非線性晶體、時間解析光致螢光光譜、衰退時間 nonlinear crystal, time-resolved photoluminesce, InN, decay time, Auger recombination rate |
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統計 Statistics |
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中文摘要 |
此論文使用Upconversion去作出時間解析光致螢光光譜來研究不同溫度下,使用不同激發強度的雷射來探討純氮化銦與參雜不同濃度矽之氮化銦的生命週期。比較兩種非線性晶體BBO與KTA的差異,並且說明BBO晶體的切割方向校正並以其推測樣品訊號位置,最後把BBO晶體換上KTA晶體。做出樣品生命週期圖後,發現高溫時,樣品生命週期變得必須用兩組衰退時間表示,且衰退時間會隨著溫度上升及激發雷射強度變大而變短。利用文獻的結論,當溫度越高,歐傑結合衰退率及SRH係數皆會升高等等來說明實驗得到的結果,此外,樣品間衰退時間的差異可從總載子數去作解釋。 |
Abstract |
This thesis doing time resolved photoluminescence to study lifetime of Indium Nitride(InN) and Silicon doping Indium Nitride(Si:InN) in different temperature by using upconversion. We compare with nonlinear crystal BBO and KTA. Then, we explain how to correct the cutting angle of the BBO crystal. Finally, we illustrate the method to replace BBO with KTA. In the beginning, we try to find the max intensity energy position of sample photoluminescence. We use our result to compare the result of reference, then we can check the optical properties of the samples are not change. Next, we do the time resolved photoluminescence to get the lifetime of samples. We use exponential decay to fit the lifetime, but the fitting result show two decay time in high temperature. The other result show the decay time decrease with excitation intensity and temperature increase. We check the result of reference to explain the phenomenon which we get from experiment. Because of SRH decay rate and Auger decay rate will be increase in high temperature. That is the reason why decay time be short and get two decay time by fitting sample lifetime and decay time decrease with excitation intensity and temperature increase. By the way, the decay time between the different sample can be used the carrier density to explain. |
目次 Table of Contents |
目錄 論文審定書 i 致謝 ii 摘要 iii Abstract iv 第一章 導論 1 1.1 文獻探討 1 1.2 論文架構 3 第二章 實驗原理與架構 5 2.1 非線性光學原理,, 5 2.2 Upconversion原理 6 2.3 實驗架構 11 第三章 載子動力學 15 3.1 導電帶載子釋放能量機制1 15 3.2 載子覆合機制 16 3.3 載子衰退率計算,, 18 3.4 光生載子濃度計算 21 第四章 實驗分析與討論 23 4.1 樣品簡介與霍爾量測 23 4.2 光致螢光光譜 25 4.3 非線性晶體BBO與KTA光路架設切換 33 4.4 生命週期分析 35 第五章 結論 55 參考文獻 56 圖目錄 圖2.1 三道光沿同一方向,且定義角度θ和ϕ 8 圖2.2 和頻光示意圖 9 圖2.3 BBO晶體中PL波長、和頻光波長、相位匹配角關係圖 10 圖2.4 KTA晶體中PL波長與相位匹配角關係圖 11 圖2.5 和頻光時間解析頻譜示意圖 11 圖2.6 雷射脈衝與重覆率示意圖 12 圖2.7 實驗裝置光路架設示意圖 12 圖2.8 不同波長對應的濾波片穿透率 14 圖2.9 光電倍增管內部構造 14 圖3.1 載子在半導體內躍遷示意圖 16 圖3.2 載子結合機制示意圖 18 圖3.3 雷射光腰與雷射橢圓面積示意圖 21 圖4. 1 樣品成長示意圖 23 圖4. 2 氮化銦參雜矽溫度與遷移率和載子濃度關係圖 24 圖4. 3 M8059在40k下功率100mW的光致螢光光譜 26 圖4. 4 M8059變溫光致螢光光譜 26 圖4.5 M8053在45k下功率100mW的光致螢光光譜 27 圖4.6 M8053變溫光致螢光光譜 28 圖4.7 M8057在40k下功率100mW的光致螢光光譜 28 圖4.8 M8057變溫光致螢光光譜 29 圖4.9 M8056在40k下功率100mW的光致螢光光譜 29 圖4.10 M8056變溫光致螢光光譜 30 圖4.11 M8056在40K下有無濾波片光致螢光光譜對照圖 30 圖4.12 M8056 光致螢光與808nm雷射和頻光在40K下能量與強度關係圖 31 圖4.13 四個樣品背景載子濃度與PL峰值能量位置圖 32 圖4.14 在40K下,100mW激發樣品後使用兩種非線性晶體和頻訊號大小比較圖 33 圖4.15 三塊BBO晶體相位匹配角推算轉動平台角度與PL波長對應圖 34 圖4.16 M8059在40K下不同激發功率的TRPL 36 圖4.17 M8059在90K下不同激發功率的TRPL 36 圖4. 18 M8059在140K下不同激發功率的TRPL 37 圖4. 19 M8053在40K下不同激發功率的TRPL 37 圖4. 20 M8053在90K下不同激發功率的TRPL 38 圖4. 21 M8053在140K下不同激發功率的TRPL 38 圖4. 22 M8053在190K下不同激發功率的TRPL 39 圖4. 23 M8057在40K下不同激發功率的TRPL 39 圖4. 24 M8056在40K下不同激發功率的TRPL 40 圖4. 25 M8056在90K下不同激發功率的TRPL 40 圖4.26 M8056在140K下不同激發功率的TRPL 41 圖4.27 M8056在190K下不同激發功率的TRPL 41 圖4.28 M8059在40K下使用不同激發功率的衰減時間 42 圖4.29 8059在90K下使用不同激發功率的衰減時間 43 圖4.30 M8059在140K下使用不同激發功率的衰減時間 43 圖4.31 M8053在40K下使用不同激發功率的衰減時間 44 圖4.32 M8053在90K下使用不同激發功率的衰減時間 45 圖4.33 M8053在140K下使用不同激發功率的衰減時間 45 圖4.34 M8053在190K下使用不同激發功率的衰減時間 46 圖4.35 M8057在40K下使用不同激發功率的衰減時間 47 圖4.36 M8056在40K下使用不同激發功率的衰減時間表 47 圖4.37 M8056在90K下使用不同激發功率的衰減時間表 48 圖4.38 M8056在140K下使用不同激發功率的衰減時間 49 圖4.39 M8056在190K下使用不同激發功率的衰減時間 49 圖4.40 氮化銦的本質載子濃度為8.8×1018cm-3樣品A與4.4×1018 cm-3樣品B的衰退率關係圖,插圖為SRH係數與溫度關係圖 51 圖4.41 兩種氮化銦樣品的歐傑結合衰退率、發光輻射結合率與載子數關係圖10,上方插圖為歐傑結合係數C與溫度關係,下方插圖為歐傑結合衰退率與光生載子濃度關係 52 圖4.42 在40K下,三種樣品的激發強度與衰退時間關係圖 53 圖4.43 在激發強度100mW下,三種樣品的溫度與衰退時間τfast關係圖 53 表目錄 表1. 1 文獻數據整理 3 表2. 1 BBO晶體參數 9 表2. 2 KTA晶體參數 10 表4. 1 樣品霍爾量測資料由杜立偉教授實驗室提供 23 表4. 2 樣品應力計算結果28 25 表4.3 比較實驗與文獻得到的樣品低溫螢光位置 32 表4.4 M8059在40K下使用不同激發功率的衰減時間表 42 表4.5 M8059在90K下使用不同激發功率的衰減時間表 43 表4.6 M8059在140K下使用不同激發功率的衰減時間表 44 表4.7 M8053在40K下使用不同激發功率的衰減時間表 44 表4.8 M8053在90K下使用不同激發功率的衰減時間表 45 表4.9 M8053在140K下使用不同激發功率的衰減時間表 46 表4.10 M8053在190K下使用不同激發功率的衰減時間表 46 表4.11 M8057在40K下使用不同激發功率的衰減時間表 47 表4.12 M8056在40K下使用不同激發功率的衰減時間表 48 表4.13 M8056在90K下使用不同激發功率的衰減時間表 48 表4.14 M8056在140K下使用不同激發功率的衰減時間表 49 表4.15 M8056在190K下使用不同激發功率的衰減時間表 50 表4.16 在40K下各樣品使用100mW激發的生命週期與載子關係表 51 |
參考文獻 References |
1. J. Shah, “Ultrafast Spectroscopy of Semiconductors and Semiconductor Nanostructures”, Second enlarged edition,(Springer)(1999) 2. F. Chen, A. N. Cartwright, H. Lu, W. J. Schaff, “Time-resolved spectroscopy of recombination and relaxation dynamics in InN”, Appl. Phys. Lett. 83(2003) 4984 3. J. W. Pomeroy, M. Kuball, H. Lu, W. J. Schaff, X. Wang, A. Yoshikawa, “Phonon lifetime and phonon decay in InN”, Appl. Phys. Lett. 86(2005) 224501 4. T. R. Tsai, C. F. Chang, S. Gwo, “Ultrafast hot electron relaxation time anomaly in InN epitaxial films”, Appl. Phys. Lett. 90(2007) 252111 5. T. R. Tsai, C. Y. Chang, C. W. Kuo, J. S. Hwang, T. Y. Lin, S. Gwo, “Spectral dependence of time-resolved photoreflectance of InN epitaxial films”, Appl. Phys. Lett. 95(2009) 142108 6. Y. C. Wen, C. Y. Chen, C. H. Shen, S. Gwo, C. K. Sun, “ Ultrafast carrier thermalization in InN “, Appl. Phys. Lett. 89(2006) 232114 7. S. Z. Sun, Y. C. Wen, S. H. Guol, H. M. Lee, S. Gwo, C. K. Sun, “ Observation of femtosecond carrier thermalization time in indium nitride “, J. Appl. Phys. 103(2008) 123513 8. F. Chen, A. N. Cartwright, H. Lu, W. J. Schaff, “Temperature dependence of carrier lifetimes in InN”, Status Soli A, 202(2005) 768 9. T. R. Tsai, C. Y. Chang, C. W. Kuo, J. S. Hwang, T. Y. Lin, Shangjr. Gwo, “ Spectral dependence of time-resolved photoreflectance of InN epitaxial films “, Appl. Phys. Lett. 95(2009) 142108 10. D. J. Jang, G. T. Lin, C. L. Hsiao, L. W. Tu, M. E. Lee, “ Auger recombination in InN thin films “, Appl. Phys. Lett. 92(2008) 042101 11. I. P. Seetoh, C. B. Soh, E. A. Fitzgerald, S. J. Chua, “Auger recombination as the dominant recombination process in indium nitride at low temperatures during steady-state photoluminescence”, App. Phys. Lett. 102(2013) 101112 12. R. Ascazubi, I. Wilke, S. Cho, H. Lu, W. J. Schaff, “ Ultrafast recombination in Si-doped InN”, Appl. Phys. Lett. 88(2006) 112111 13. A. Mohanta, D. J. Jang, G. T. Lin, Y. T. Lin, L. W. Tu, “ Carrier recombination dynamics in Si doped InN thin films “, J. Appl. Phys 110(2011) 023703 14. 林冠庭, “氮化銦薄膜載子鬆弛之研究”, 國立中山大學物理研究所碩士論文 (2008) F. L, Lemo. S, Lemo. M., “Introduction To Optical”, Third edition, (Pearson education)(2007) E. Hecht, OPTICS, Forth edition, (Pearson Education), U.S.A(2002) J. Shah,”Ultrafast luminescence spectroscopy using sum frequency generation”, IEEE Journal of Quantum Electronics. 24(1988) 2 F. W. Sears, “Optical”, Third edition, (Addison-Wesley)(1948) K. Kato, “Second-Harmonic and Sum-Frequency Generation in KTiOAsO4”, IEEE Journal of Quantum Electronics. 30(1994) 4 ”Photomultiplier tube Basics and application”, third edition, (Hamamatsu)(2007) 季振國,”半導體物理”, (浙江大學出版社)(2005) E.F. Schubert, “Light-Emitting Diodes”, Cambridge University Press(2006) 嚴考豐, “半導體物理學”, 新文京開發出版有限公司,(2006) 游志樸, “半導體材料”, 新文京開發出版有限公司,(2003) C. Kittel, “Introduction To Solid State Physics”, Eighth edition, Wiley, U.S.A. (2005) M. Higashiwaki, T. Matsui, “Estimation of band-gap energy of intrinsic InN from photoluminescence properties of undoped and Si-doped InN films grown by plasma-assisted molecular-beam epitaxy”, J. Cryst. Growth 269(2004)162 S. M. Sze, “Semiconductor Device 2nd”, John Wiley and sons(2002) 張佑齡, “以電漿輔助分子束磊晶系統成長不同系摻雜 C面氮化銦及拉曼光 譜之研究”, 國立中山大學物理系研究所碩士論文(2008) 王銘崧, “摻雜矽氮化銦薄膜之載子釋放機制研究”, 國立中山大學物理系研究 所碩士論文(2011) J. Wu, W. Walukiewicz, K. M. Yu, J. W. Ager, E. E. Haller, H. Lu, W. J. Schaff, Y. Saito, Y. Nanishi, “Unusual properties of the fundamental band gap of InN “, Appl. Phys. Lett. 80(2002) 3967 曾耀功, “氮化銦薄膜的載子冷卻研究”, 國立中山大學物理系研究所碩士論文 (2011) |
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